Print Share Share on Facebook Share on X Share on LinkedIn Share this page URL Job description Caractérisation optique de grands objets à grande période pour la microélectronique par ellipsométrie Stage BUT 3 On November 6, 2024 Durée : 15 semaines à partir du 10 mars 2025 Read more Job description Plasma etching process development of doped HfO2 for next memory generation Master 2 internship project On October 2, 2024 Keywords : plasma etching process, material characterization (XPS, ellipsometry), HfO2, Gadolinium, FeRAM Read more Print Share Share on Facebook Share on X Share on LinkedIn Share this page URL
Job description Caractérisation optique de grands objets à grande période pour la microélectronique par ellipsométrie Stage BUT 3 On November 6, 2024 Durée : 15 semaines à partir du 10 mars 2025 Read more
Job description Plasma etching process development of doped HfO2 for next memory generation Master 2 internship project On October 2, 2024 Keywords : plasma etching process, material characterization (XPS, ellipsometry), HfO2, Gadolinium, FeRAM Read more
